[发明专利]分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法有效
申请号: | 200410005562.1 | 申请日: | 2004-02-18 |
公开(公告)号: | CN1550537A | 公开(公告)日: | 2004-12-01 |
发明(设计)人: | 长俊连;岩城彰;麻生敏明 | 申请(专利权)人: | 多摩化学工业株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分散 稳定性 良好 研磨剂 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
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