[发明专利]半色调掩模光刻热熔成形微透镜阵列方法无效
| 申请号： | 200410009113.4 | 申请日： | 2004-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN1702481A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 董小春;杜春雷;邱传凯;李淑红;赵泽宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 色调 光刻 成形 透镜 阵列 方法 | ||
【说明书】：
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