[发明专利]化学机械研磨抛光系统中的抛光垫的调理方法无效
| 申请号： | 200410018600.7 | 申请日： | 2004-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1699016A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 李京漋;马智勇;余慧;徐根保 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海隆天新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 抛光 系统 中的 调理 方法 | ||
【说明书】：
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