[发明专利]铝化学机械抛光和保护层的方法与结构有效
| 申请号： | 200410024912.9 | 申请日： | 2004-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1704204A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 俞昌;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 保护层 方法 结构 | ||
【说明书】：
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