[发明专利]形成多孔膜的组合物,多孔膜和其制备方法,层间绝缘膜和半导体器件无效
| 申请号： | 200410031386.9 | 申请日： | 2004-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1542071A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 荻原勤;八木桥不二夫;滨田吉隆;浅野健;岩渊元亮;中川秀夫;笹子胜 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社;松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;H01L21/312 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;薛俊英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 多孔 组合 制备 方法 绝缘 半导体器件 | ||
【说明书】：
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
