[发明专利]Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正有效
| 申请号： | 200410032185.0 | 申请日： | 2004-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN1573556A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | E·A·F·范德帕斯;M·H·M·比姆斯;E·R·鲁普斯塔拉;H·J·M·梅杰;D·N·贾勃特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏移 垂直 照射 产生 物体 移位 中的 位置 校正 | ||
【权利要求书】：
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