[发明专利]用于测量光刻装置中元件表面污染物的方法和设备无效
| 申请号： | 200410033011.6 | 申请日： | 2004-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1525160A | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | R·库尔特;M·C·范贝克;A·E·迪斯特温克;E·R·基夫特;H·梅林;B·M·默滕斯;J·H·J·穆尔斯;L·H·J·斯蒂芬斯;B·T·沃尔施里恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郑建晖 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 测量 光刻 装置 元件 表面 污染物 方法 设备 | ||
【权利要求书】：
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