[发明专利]涂敷设备、薄膜形成方法、薄膜形成设备、半导体器件制造方法、电光装置和电子仪器无效
| 申请号： | 200410035379.6 | 申请日： | 2004-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1541781A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 汤田坂一夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/00;B05C11/10;B05C9/14;B05C9/12;B05C9/10;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 敷设 薄膜 形成 方法 设备 半导体器件 制造 电光 装置 电子仪器 | ||
【说明书】：
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