[发明专利]用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备无效
申请号: | 200410043527.9 | 申请日: | 1999-02-16 |
公开(公告)号: | CN1548574A | 公开(公告)日: | 2004-11-24 |
发明(设计)人: | 二川正康;水户清 | 申请(专利权)人: | 夏普公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 章社杲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 形成 薄膜 防镀片 之间 改变 距离 设备 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普公司,未经夏普公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200410043527.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类