[发明专利]溅射源、溅射装置和溅射方法有效
| 申请号： | 200410045720.6 | 申请日： | 2004-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1572900A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 佐藤重光;末代政辅;大空弘树;清田淳也;中村肇;石桥晓;太田淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01L21/203 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰;叶恺东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 方法 | ||
【说明书】：
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