[发明专利]采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法无效
| 申请号： | 200410047674.3 | 申请日： | 2004-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN1573563A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 奥玛·E·M.·卡玛丑;陈培杰;黄成一;蒂安纳·皮莱兹;孙永健 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G11B5/33;G11B5/127;B24B5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用光 致抗蚀剂 形成 均匀 特征 方法 | ||
【说明书】：
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