[发明专利]喷墨打印制备二氧化锡基薄膜型气敏器件的方法无效
| 申请号： | 200410050389.7 | 申请日： | 2004-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1747194A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 赵岩;沈文锋;郝传勇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | H01L49/00 | 分类号： | H01L49/00;H01L29/00;H01L21/00;G01N27/12 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷墨 打印 制备 氧化 薄膜 型气敏 器件 方法 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所，未经中国科学院金属研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200410050389.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体集成器件
- 下一篇：免疫刺激序列寡核苷酸和使用方法
