[发明专利]光刻装置的校准方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410055004.6 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577096A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;H·W·M·范布尔;J·洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 校准 方法 器件 制造 | ||
【权利要求书】：
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