[发明专利]磁头线圈系统及其嵌埋/反应离子刻蚀方法无效
| 申请号： | 200410059318.3 | 申请日： | 2004-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1573936A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·W·贝德尔;理查德·萨伊奥;詹姆斯·D·加拉特;帕特里克·R·韦布;张思扬 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/127 | 分类号： | G11B5/127;G11B5/17 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁头 线圈 系统 及其 反应 离子 刻蚀 方法 | ||
【权利要求书】：
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