[发明专利]光刻装置及集成电路制造方法有效
| 申请号： | 200410061804.9 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577103A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 集成电路 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
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