[发明专利]纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法无效
| 申请号： | 200410098992.2 | 申请日： | 2004-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1797200A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;范东升;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B41M5/03;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 光学 光刻 混合 制作 方法 | ||
【权利要求书】：
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