[发明专利]设计布局及掩膜的制作方法和系统、半导体器件的制造方法有效
| 申请号： | 200410099747.3 | 申请日： | 2004-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1645377A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 小谷敏也;野岛茂树;姜帅现;出羽恭子;小川龙二;田中聪;井上壮一;高川裕隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L21/82 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 李峥;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 设计 布局 制作方法 系统 半导体器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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