[实用新型]双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备无效
| 申请号： | 200420068277.X | 申请日： | 2004-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN2734774Y | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 雷卫武 | 申请（专利权）人： | 雷卫武 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410002*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子束 溅射 原子 纳米 薄膜 设备 | ||
【权利要求书】：
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