[发明专利]旋涂装置以及使用此旋涂装置制造的涂层基板无效
| 申请号： | 200480001545.9 | 申请日： | 2004-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN1717728A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 姜太植;韩美英;李成根;张城勋;洪瑛晙 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 黄启行;谢丽娜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 以及 使用 制造 涂层 | ||
【说明书】：
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