[发明专利]溅射靶及其制造方法和光信息记录介质用薄膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200480005978.1 | 申请日： | 2004-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN1756858A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 细野秀雄;植田和茂;矢作政隆;高见英生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 信息 记录 介质 薄膜 | ||
【说明书】：
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