[发明专利]利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法有效
申请号: | 200480005996.X | 申请日: | 2004-02-13 |
公开(公告)号: | CN1756996A | 公开(公告)日: | 2006-04-05 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·R·沃森;帕维特·曼加特 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G21K5/00;G03G16/00;G03C5/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李涛;钟强 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 衰减 相移 图案 晶片 光刻 方法 | ||
【权利要求书】:
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