[发明专利]利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法有效
| 申请号： | 200480005996.X | 申请日： | 2004-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN1756996A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·R·沃森;帕维特·曼加特 | 申请（专利权）人： | 飞思卡尔半导体公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G21K5/00;G03G16/00;G03C5/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李涛;钟强 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 利用 衰减 相移 图案 晶片 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
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