[发明专利]光学元件、光学系统、激光器装置、曝光设备、掩模检测装置和高分子晶体加工设备有效
| 申请号： | 200480007623.6 | 申请日： | 2004-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN1761907A | 公开（公告）日： | 2006-04-19 |
| 发明（设计）人： | 三轮聪 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02F1/37;H01S3/02;G03F7/20;G03F1/08;H01L21/027;B23K26/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 车文;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 元件 光学系统 激光器 装置 曝光 设备 检测 高分子 晶体 加工 | ||
【权利要求书】：
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