[发明专利]硅薄膜退火方法和由该方法制造的多晶硅薄膜有效
申请号: | 200480014798.X | 申请日: | 2004-05-27 |
公开(公告)号: | CN1795563A | 公开(公告)日: | 2006-06-28 |
发明(设计)人: | 卢在相;洪沅义 | 申请(专利权)人: | 卢在相 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 樊卫民;杨青 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 退火 方法 制造 多晶 | ||
【说明书】:
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