[发明专利]用于形成自组装单层的化合物的合成方法、形成自组装单层的化合物和用于半导体组件的层结构无效
| 申请号： | 200480017301.X | 申请日： | 2004-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1809578A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | F·埃芬伯格;M·许茨;S·迈施;S·塞弗里茨;G·施密德;M·哈利克;H·克劳克;U·茨施尚;S·霍尔伯格 | 申请（专利权）人： | 因芬尼昂技术股份公司 |
| 主分类号： | C07F7/12 | 分类号： | C07F7/12;C07F7/14;H01L51/05 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 庞立志;赵苏林 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 形成 组装 单层 化合物 合成 方法 半导体 组件 结构 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司，未经因芬尼昂技术股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200480017301.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种大孔沸石吸附剂及其制备方法
- 下一篇：抗寄生物萜类生物碱
