[发明专利]在二阶或高阶分布反馈激光器中抑制空间烧孔的方法和设备无效
| 申请号： | 200480020553.8 | 申请日： | 2004-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1823456A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 阿里·M·沙姆斯·让德赫·阿米里;伟·李;汤姆·哈斯利特;塞义德·穆斯塔法·萨迪吉 | 申请（专利权）人： | 福托纳米公司 |
| 主分类号： | H01S5/187 | 分类号： | H01S5/187;H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人： | 万学堂 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分布 反馈 激光器 抑制 空间 方法 设备 | ||
【权利要求书】：
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