[发明专利]含有具有被保护的羧基的化合物的形成光刻用下层膜的组合物有效
| 申请号： | 200480022026.0 | 申请日： | 2004-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN1830202A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 竹井敏;岸冈高广;境田康志;新城彻也 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H04N1/38 | 分类号： | H04N1/38;H04N1/387 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 具有 保护 羧基 化合物 形成 光刻 下层 组合 | ||
【说明书】：
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