[发明专利]用于刻印平版印刷工艺的放大和变形矫正的系统无效
| 申请号： | 200480023067.1 | 申请日： | 2004-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1871103A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑;M·J·美斯尔 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | B28B11/08 | 分类号： | B28B11/08;B28B7/02;A01J25/12;A01J21/00;A21C3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾峻峰 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 刻印 平版印刷 工艺 放大 变形 矫正 系统 | ||
【说明书】：
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