[发明专利]利用电子束的薄层高分辨率加工方法有效
| 申请号： | 200480023882.8 | 申请日： | 2004-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN1839349A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 谢尔盖·巴宾;克劳斯·埃丁格;汉斯·W·P·科普斯;彼得拉·施皮斯;托尔斯滕·霍夫曼 | 申请（专利权）人： | 纳沃技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;H01J37/305;C23F4/00;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾晋伟;刘继富 |
| 地址： | 德国罗*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 利用 电子束 薄层 高分辨率 加工 方法 | ||
【说明书】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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