[发明专利]光刻投影装置、气体净化方法、器件制造方法以及净化气体供应系统有效
| 申请号： | 200480026605.2 | 申请日： | 2004-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN1853142A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | A·J·范德内特;J·斯佩格尔曼;J·J·范布拉格特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;诚实公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 装置 气体 净化 方法 器件 制造 以及 供应 系统 | ||
【说明书】：
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