[发明专利]激光薄膜多晶硅退火光学系统有效
申请号: | 200480035030.0 | 申请日: | 2004-11-12 |
公开(公告)号: | CN1886228A | 公开(公告)日: | 2006-12-27 |
发明(设计)人: | 威廉·N·帕特罗;帕拉什·P·达斯;拉塞尔·赫迪玛;迈克尔·托马斯 | 申请(专利权)人: | TCZ股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00 |
代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 | 代理人: | 严慎 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 薄膜 多晶 退火 光学系统 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCZ股份有限公司,未经TCZ股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200480035030.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。