[发明专利]等离子体显示器成对寻址无效

专利信息
申请号: 200480038454.2 申请日: 2004-12-03
公开(公告)号: CN101084536A 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 矶部则房 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G09G3/10 分类号: G09G3/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;于静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示器 成对 寻址
【说明书】:

技术领域

本发明涉及等离子体显示器,更具体地,涉及一种等离子体显示器,其中抑制了像素之间的垂直串扰,而没有不利地影响电极的壁电荷。

背景技术

等离子体显示器包括封装在一起的前板和后板,且在两板之间具有充满可放电气体的空间。前板包括水平行电极,每行配有与扫描电极平行的维持电极。扫描电极和维持电极被介质层和氧化镁(MgO)层覆盖。后板支持垂直阻挡肋和垂直列电极。在彩色显示器中,单个的列电极分别覆有红、绿或蓝色(RGB)的荧光粉。可将像素限定为(i)扫描电极和维持电极分别与(ii)三列红、绿或蓝色电极的交叉的周围的区域。子像素对应于红、绿或蓝色列电极与维持电极和扫描电极的电极对的交叉区域。

扫描电极在寻址周期内被单独驱动,其中可选择每一行,从而使沿行的子像素可通过在垂直列电极上施加数据电压触发的寻址放电而被寻址。在维持周期,在所有扫描电极上施加共同的维持脉冲,以在寻址周期内寻址的每个子像素点上重复产生等离子体放电。

维持电极在寻址操作时为扫描电极提供参考点。在维持周期,对所有维持电极施加与施加到扫描电极上的维持脉冲的相不同的共同的维持脉冲,从而等离子体放电在维持和扫描电极之间改变方向。

存在这样等离子体显示器,其中维持电极对与扫描电极对交错排列。在一个例子中,电极排列顺序如下:

行1,维持电极;

行1,扫描电极;

行2,扫描电极;

行2,维持电极;

行3,维持电极;

行3,扫描电极;

行4,扫描电极;

行4,维持电极;

等等。

从而行1和行2的扫描电极形成第一扫描电极对,行3和行4的扫描电极形成第二扫描电极对。行2和行3的维持电极形成与第一和第二扫描电极对交错的维持电极对。

电极对的互相交错导致电极间的电容量比非交错的电极低。较低的电极间电容量有益于大面积等离子体显示器。

像素间的间隙是相邻像素之间的空间区域。当像素间的间距很小时,电极对上产生的公共的电压会导致错误的串扰放电和/或相邻像素点中的壁电荷泄漏,尤其是在垂直方向上。注意,如上所述,对互相交错的电极对而言,部分像素间的间隙位于相邻的扫描电极之间,部分像素间的间隙位于相邻的维持电极之间。

维持间隙是其中发生放电的扫描电极和维持电极之间的空间区域。充有正电荷的电极用作阳极,充有负电荷的电极用作阴极。当跨过维持间隙施加足够高的电压时,气体将被击穿并形成放电等离子体。放电等离子体具有两个不同区域,即正柱和负辉。正柱由快速移动的寻找阳极表面的正电荷的电子组成。相反地,负辉由缓慢地移向并穿越充负电的阴极的离子组成。放电的持续时间由电极的介电表面的电荷量决定。

每个扫描电极都由一个独立的可寻址扫描驱动器驱动。在像素的寻址周期,像素的扫描电极的扫描驱动器输出行选择脉冲,该脉冲与施加在像素列电极上的数据脉冲一致。从而像素的扫描电极和维持电极间发生寻址放电。寻址放电产生正柱区域,其可穿过分隔维持电极的像素间的间隙,还产生负辉区域,其穿过分隔扫描电极对的像素间的间隙可减少相邻的扫描电极上的壁电荷。

美国专利申请10/305,560描述了一种与交错寻址结合以最小化正柱串扰的垂直串扰抑制技术。然而,当交错寻址寻址扫描电极对中的第一扫描电极时,在扫描电极对的第二扫描电极的放电处发生一些壁电荷泄漏,从而减少了第二扫描电极的壁电荷。更具体地,寻址放电的缓慢移动的负辉部分扩散越过第一扫描电极并趋于消耗第二扫描电极上的壁电荷。从而当第二扫描电极被寻址时,减少了的壁电荷要求比壁电荷未减少时施加更高的寻址电压。因为功耗与电压平方成正比,所以更高的寻址电压是不希望的,且在更高的寻址电压下更易发生正柱的串扰。

发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200480038454.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top