[发明专利]光学记录介质及其生产方法、溅射靶、光学记录介质的使用方法和光学记录装置无效
| 申请号： | 200480039879.5 | 申请日： | 2004-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1902058A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 三浦裕司;伊藤和典;针谷真人;日比野荣子;真贝胜;大仓浩子 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;C23C14/34;G11B7/24;G11B7/004 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;杨梧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 及其 生产 方法 溅射 使用方法 装置 | ||
【说明书】：
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