[发明专利]基板的处理装置、输送装置及处理方法有效
申请号: | 200480044442.0 | 申请日: | 2004-11-19 |
公开(公告)号: | CN101061761A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 广濑治道 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子株式会社 |
主分类号: | H05K3/26 | 分类号: | H05K3/26;H01L21/304 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 胡建新 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 输送 方法 | ||
1.一种基板的输送装置,将基板以规定的角度倾斜来输送,其 特征在于,
具备:
支撑上述基板的下端、并且通过被旋转驱动而将上述基板在规定 方向上输送的驱动辊;
多个承接辊,沿着上述基板的输送方向可旋转地设置,支撑以规 定的角度倾斜的上述基板的板面的上下方向的多个部位;
上述多个承接辊中对上述基板的高度方向的中间部分进行支撑 的承接辊被配置在比以上述规定的倾斜角度支撑上述基板的位置更 靠倾斜方向后方退避的位置上,以便将上述基板向倾斜方向凸出地弯 曲来进行支撑。
2.一种基板的输送方法,用多个承接辊支撑基板来输送其特征 在于,
在将基板倾斜规定的倾斜角度来输送时,该基板被上述承接辊支 撑为以比上述规定的倾斜角度更大的角度向倾斜方向凸出地弯曲来 输送。
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