[发明专利]大功率快速软恢复二极管及其生产工艺无效
申请号: | 200510011701.6 | 申请日: | 2005-05-11 |
公开(公告)号: | CN1710707A | 公开(公告)日: | 2005-12-21 |
发明(设计)人: | 黄耀先;李玉柱;李善谟 | 申请(专利权)人: | 北京京仪椿树整流器有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/329 | 分类号: | H01L21/329;H01L29/868 |
代理公司: | 北京市商泰律师事务所 | 代理人: | 谷胜斌 |
地址: | 100071*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 大功率 快速 恢复 二极管 及其 生产工艺 | ||
【说明书】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造