[发明专利]在感应耦合等离子体刻蚀中保护刻蚀结构的方法无效
| 申请号： | 200510012079.0 | 申请日： | 2005-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1891617A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 阮勇;张大成;王阳元;张兴;李婷;田大宇;罗葵;王兆江;于晓梅;杨芳;李修函;刘晓娣 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人： | 贾晓玲 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感应 耦合 等离子体 刻蚀 保护 结构 方法 | ||
【说明书】：
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