[发明专利]含吲哚基团的二阶非线性光学发色团及其制法和用途无效
| 申请号： | 200510019396.5 | 申请日： | 2005-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1740171A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 李振;龚伟;秦金贵;李素悦;杨君维;李倩倩 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C07D407/06 | 分类号： | C07D407/06;C07D409/06;C07D413/14;G11C13/04 |
| 代理公司： | 武汉天力专利事务所 | 代理人： | 程祥;冯卫平 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吲哚 基团 非线性 光学 发色团 及其 制法 用途 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学，未经武汉大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510019396.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
