[发明专利]对长掩模版曝光聚焦平面校正的调整方法有效
| 申请号： | 200510025350.4 | 申请日： | 2005-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1851556A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 姚峰英 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹(集团)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模版 曝光 聚焦 平面 校正 调整 方法 | ||
【说明书】：
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