[发明专利]反应离子深刻蚀加工微结构的侧壁钝化方法无效
| 申请号： | 200510027569.8 | 申请日： | 2005-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1718534A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 杨春生;张丛春;丁桂甫;黄龙旺 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 离子 深刻 加工 微结构 侧壁 钝化 方法 | ||
【权利要求书】：
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