[发明专利]射频磁控溅射制备ZrW2O8/ZrO2薄膜的方法无效
| 申请号： | 200510040805.X | 申请日： | 2005-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1718850A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 严学华;程晓农 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 | 代理人： | 汪旭东 |
| 地址： | 212013江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射频 磁控溅射 制备 zrw sub zro 薄膜 方法 | ||
【说明书】：
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