[发明专利]纳米压印用紫外光固化阳离子型刻蚀胶无效
| 申请号： | 200510043034.X | 申请日： | 2005-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1719338A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 段玉岗;丁玉成;李涤尘;卢秉恒 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 紫外 光固化 阳离子 刻蚀 | ||
【说明书】：
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