[发明专利]化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法有效
| 申请号： | 200510054230.7 | 申请日： | 2005-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN1654169A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | 冈本隆浩;宫内裕之;河原弘二;志保浩司;长谷川亨;川桥信夫 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | B24D3/22 | 分类号： | B24D3/22;C08J5/00;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 制造 方法 以及 | ||
【说明书】：
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