[发明专利]研磨用磨料、研磨剂、研磨液、研磨液的制造方法、研磨方法以及半导体元件的制造方法有效
| 申请号： | 200510055710.5 | 申请日： | 2005-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN1670114A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | 吉泽千绘;植松锐;增山尚司;谷毅彦 | 申请（专利权）人： | 日立电线株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 磨料 研磨剂 制造 方法 以及 半导体 元件 | ||
【权利要求书】：
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