[发明专利]正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置无效
| 申请号： | 200510059701.3 | 申请日： | 2005-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1677247A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 井村和久 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 正相抗蚀膜 剥离 方法 曝光 用掩模 制造 以及 抗蚀剂 装置 | ||
【说明书】：
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