[发明专利]垂直磁记录介质、其制造方法及磁存储器件有效
| 申请号： | 200510070269.8 | 申请日： | 2005-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN1707624A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 向井良一 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/73;G11B5/84;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 介质 制造 方法 磁存储器 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社，未经富士通株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510070269.8/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：对苯二甲酸的制备方法
- 下一篇：处理幻灯演示数据的方法、媒体和设备
