[发明专利]具有局部应力结构的金属氧化物半导体场效应晶体管有效
申请号: | 200510075361.3 | 申请日: | 2005-06-16 |
公开(公告)号: | CN1805151A | 公开(公告)日: | 2006-07-19 |
发明(设计)人: | 陈建豪;蔡邦彦;张志坚;李资良;陈世昌 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王永红 |
地址: | 台湾省新竹市新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 局部 应力 结构 金属 氧化物 半导体 场效应 晶体管 | ||
【权利要求书】:
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