[发明专利]辐射系统、光刻设备、装置制造方法及其制造的装置有效
| 申请号： | 200510076147.X | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1707363A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | M·M·T·M·迪里奇斯;M·F·A·厄林斯;H·－J·沃尔马;O·W·V·弗里恩斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 装置 制造 方法 及其 | ||
【说明书】：
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