[发明专利]化学机械研磨垫、其制造方法和化学机械研磨方法有效
| 申请号： | 200510078823.7 | 申请日： | 2005-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1699019A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 保坂幸生;下山裕司;志保浩司;川桥信夫 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 制造 方法 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社，未经JSR株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510078823.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多晶硅的生产装置
- 下一篇：安装有替换单元的图像形成装置
