[发明专利]用于等离子体蚀刻机器的气体分布电极有效
| 申请号： | 200510108808.2 | 申请日： | 2005-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1758825A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 洪健雄;曾崇豪;陈滢如;王亮为 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H05H1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 蚀刻 机器 气体 分布 电极 | ||
【说明书】：
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