[发明专利]用于浸渍光刻技术的组合物和工艺有效
| 申请号： | 200510109853.X | 申请日： | 2005-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN1737685A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | M·K·加拉赫;G·B·韦顿;G·P·普罗科波维奇;S·A·罗伯特森 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/11;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 浸渍 光刻 技术 组合 工艺 | ||
【说明书】：
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