[发明专利]用于半导体晶片清洗的缓蚀剂体系有效
| 申请号： | 200510111602.5 | 申请日： | 2005-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1982426A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;王淑敏 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/37 | 分类号： | C11D3/37;C23G1/06;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 晶片 清洗 缓蚀剂 体系 | ||
【权利要求书】：
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